Produk

JX-1 Bendalir penyejuk rendaman fasa tunggal-boleh menggantikan pelesapan haba tradisional pusat data sebagai tempat untuk pengkomputeran, penyimpanan dan pertukaran maklumat, memastikan operasi

NO CAS: 406-78-0. Ketegangan permukaan rendah, kelikatan rendah, kebolehbasahan yang baik. Keserasian bahan yang sangat baik (tidak serasi dengan air). Kestabilan haba yang baik, keselamatan,

Hydrofluoroether HFE 347 mempunyai sifat yang sangat baik: seperti penyerapan cahaya yang baik, ketumpatan tinggi, kelikatan rendah, pemalar dielektrik rendah dan keterlarutan yang baik.. Ketegangan

Methylene Chloride Solvent boleh digunakan sebagai pelarut dalam industri resin dan plastik, dan digunakan secara meluas dalam perubatan, plastik dan industri lain..

Serbuk halus resin PTFE mempunyai banyak kelebihan, seperti rintangan kimia yang tinggi, tidak mudah dipatuhi, rintangan suhu tinggi, penebat elektrik yang baik, dll.

Mempunyai kekuatan tegangan yang tinggi dan kebolehlanjutan yang baik, boleh membuat pita meterai.. Untuk membuat tiub tersemperit putih.. Produk ini boleh diproses batang teras pepejal, ia berwarna

Sebagai agen pembuih generasi ketiga, HFC-245fa boleh menggantikan HCFC141b untuk poliuretana tegar (PU) dan buih poliisosianurat yang digunakan dalam penebat untuk peti sejuk dan penyejuk beku,

1,1,1,3,3-pentafluoropropane (HFC-245fa) digunakan secara meluas sebagai agen berbuih, penyejuk, agen pembersih, medium haba, propelan aerosol, dll.

R245fa ialah hidrofluorokarbon (HFC). Ia digunakan untuk pemasangan baharu sebagai penyejuk pakar dalam penyaman udara industri, penyaman udara dalam bangunan, sistem pemulihan haba Organic Rankine

Tinggi 99.999% C318 Perfluorocyclobutane ialah gas elektronik yang boleh digunakan dalam-skala besar litar bersepadu dan pembersihan dalam industri semikonduktor.

Octafluorocyclobutane ialah sebatian organik penting yang mempunyai pelbagai kegunaan industri kerana sifatnya yang unik.. Ketulenan: 99.9%~99.999%. Nama Lain:Perfluorocyclobutane. Standard Gred:

Gas Octafluorocyclobutane C4F8, ketulenan: 99.999%.Ia sering digunakan dalam proses semikonduktor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), C4F8 digunakan sebagai pengganti CF4 atau C2F6,